Ion Implantation Graphit vereinfacht für Halbleiter Verwendung
Graphit spielt eine zentrale Rolle bei der Ionenimplantation Graphit, einem kritischen Prozess in der Halbleiterherstellung. Seine einzigartige Kombination von Eigenschaften macht es zu einem wesentlichen Material für diese fortschrittliche Technologie. Mit außergewöhnlicher Wärmeleitfähigkeit leitet Graphit die bei der Hochenergie-Ionenbeschleunigung erzeugte Wärme effizient ab. Seine Widerstandsfähigkeit bei extremen Temperaturen sorgt für Stabilität in anspruchsvollen Umgebungen. Darüber hinaus [...]