高度な光学とエレクトロニクスにCVD sic層を不可欠にする理由
CVD SIC層により、長持ちする信頼性の高いデバイス操作のために、優れた熱、化学物質、放射線耐性を備えた高性能エレクトロニクスと光学系が可能になります。
2025-07-01
CVD SIC層により、長持ちする信頼性の高いデバイス操作のために、優れた熱、化学物質、放射線耐性を備えた高性能エレクトロニクスと光学系が可能になります。
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