Epitaxial Epi Grafite Susceptor de Barril

Epitaxial Epi Grafite Susceptor de Barril

Epitaxial Epi Graphite Barrel Susceptor é um dispositivo de suporte e aquecimento especialmente projetado usado para segurar e aquecer substratos semicondutores durante processos de fabricação, como processos de Deposição ou Epitaxia.

Sua estrutura inclui tipicamente cilíndrico ou ligeiramente em forma de barril, a superfície apresenta vários bolsos ou plataformas para colocar as bolachas, pode ser sólida ou oco, dependendo do método de aquecimento.

As principais funções do susceptor de tambor epitaxial:

-Suporte de substrato: segura várias wafers semicondutores;
- Fonte de calor: fornece altas temperaturas necessárias para o crescimento através do aquecimento;
- uniformidade da temperatura: garante o aquecimento uniforme dos substratos;
-Rotação: geralmente gira durante o crescimento para melhorar a uniformidade de temperatura e distribuição de gás.

Princípio de funcionamento do receptor de barril de grafite Epi:
- Não. No reator epitaxial, o susceptor do tambor é aquecido à temperatura exigida (tipicamente 1000°C-1200°C para epitaxia de silício);
-O susceptor do barril gira para garantir uma distribuição uniforme de temperatura e fluxo de gás;
- Os gases de reação se decompõem em altas temperaturas, formando camadas epitaxiais na superfície do substrato.

Aplicações:
-Primalmente usado para o crescimento epitaxial de silício
-Também aplicável para epitaxia de outros materiais semicondutores como GaAs, InP, etc.

VET Energia usar grafite de alta pureza com revestimento CVD-SiC para melhorar a estabilidade química:

As vantagens do VET Energy Epitaxial Epi Graphite Barrel Susceptor:

- Alta estabilidade à temperatura;
- Boa uniformidade térmica;
-Pode processar múltiplos substratos simultaneamente, melhorando a eficiência de produção;
-Química inerte, mantendo um ambiente de crescimento de alta pureza.